Mentor Graphics Calibre 2021.2 Linux 免费下载
Calibre2021 是Mentor Graphics公司专注为深亚微米工艺技术中复杂芯片设计的物理验证挑战而研发的业界第一个最高性能的环境和技术。它基于先进的层次化算法和技术，能够快速、准确、完善的对混合电路进行物理验证及寄生提取。目前，它已经被全球主流的foundry采用，并成为其内部的物理验证标准。在国内Calibre也已经被众多设计公司采用为深亚微米集成电路的物理验证工具。Calibre主要包含有以下几个模块，市面上主流版图编辑器与Calibre工具接口的Calibre interactive；版图验证工具Calibre nmDRC，Calibre LVS；层次化的验证模块nmDRC-H和LVS-H；具有图像侦错环境的Calibre RVE；大型GDSII版图数据快速读取模块Calibre DESIGNrev及混合级电路寄生提取工具Calibre xRC和xL。Calibre既可作为一个单点工具来使用，也可以集成在目前主流的版图工具中。Calibre物理验证平台涵盖了Signoff级验证的gds到mask的所有验证步骤，包括DRC,LVS,PEX，DFM以及可靠性验证，3D验证所有方面。该设计解决方案提供了一个完整的IC验证和DFM优化平台，加快了设计从创建到制造的速度，解决了所有的签字要求。
Siemens EDA（前身为Mentor Graphics）是IC设计、验证和制造领域的领导者。我们的工具使客户能够设计出推动全球数字化的创新IC，推动高速有线和5G通信、云计算、自动驾驶和人工智能智能一切的普及。Calibre Design Solutions 是 IC 验证的行业领导者，这得益于 Calibre nmPlatform 的卓越性能、准确性和可靠性。与代工厂、IC设计公司和行业标准组织的密切合作，确保Calibre工具不断提供满足或超过最先进要求的创新功能，并提供真正的竞争价值。
由于Calibre nm平台卓越的性能、精度和可靠性，Calibre Design Solutions是IC验证行业的领导者。与铸造厂、IC设计机构和行业标准组织的紧密合作，确保Calibre工具不断提供创新功能，满足或超过最先进的要求，并提供真正的竞争价值。
Calibre是设计机构和铸造厂广泛使用的最流行的工具之一。Calibrehas不同的模块，执行各种各样的功能后tapeout。贴膜后工作流程的挑战是保持对高晶圆产量的严格控制，从而减少掩膜时间和操作成本。在OPC前阶段，来自诸如分散条和偏置之类模块的一些工作负载是内存密集型的，而来自PM、OPC和MDP的工作负载则是延迟密集型的。它们依赖于存储、网络和计算机基础设施的性能，以支持和补充Calibre的速度和质量。
Calibre是芯片硅(SoC)制造过程中最常用的工具之一。该流程处理了从Calma图形数据系统(GDSII)到掩模流程的工作流的不同部分，提供了高的晶圆产量并降低了操作成本。芯片设计公司提供的输入文件包含了GDSIIorOpen Artwork System Interchange Standard (OASIS)格式的SoCsin的物理细节。虽然Calibreas作为一个应用程序正在不断优化以减少掩码的时间，但底层存储基础设施也在周转时间(TAT)方面发挥着重要作用。基础设施包括网络文件共享存储、网络层和计算场。NetApp存储主要用于存储GDSII/OASIS文件和一个共享文件系统中的知识产权文件，calibree通过网络文件系统(NFSv3)从计算场节点访问这些文件系统。
Mentor Graphics公司是西门子的子公司，是全球电子硬件和软件设计解决方案的领导者，为全球最成功的电子、半导体和系统公司提供产品、咨询服务和屡获殊荣的支持。
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